高温真空雰囲気炉
高温真空雰囲気炉
高温真空雰囲気炉は、内部構造にタングステンやモリブデンを用いた金属材構造での高真空雰囲気中で高温処理する装置です。
酸化や汚染を抑えつつ高温処理が可能な為、焼結・熱処理・脱ガス処理に対応。純度の高い高融点材料や高純度部材の研究開発・製造に適しています。
特長
- ターボ分子ポンプ搭載により、10⁻⁵ Paの高真空下および水素置換雰囲気での焼成が可能
- ベーキング機構により炉内のガス放出を低減し、高真空雰囲気を実現
- 高真空のため高純度材料の研究開発に最適
仕様
- 使用温度 ：常用2400℃、最高2500℃
- 到達真空度 ：10⁻⁵ Pa
- 雰囲気 ：真空および水素（H₂）、アルゴン（Ar）対応
- 排気系 ：ターボ分子ポンプ搭載
- 機構 ：ベーキング機構付（脱ガス対応）
用途
- 高純度環境での焼成・熱処理
- 高真空下での熱処理・脱ガス処理・還元処理（水素雰囲気）
- 半導体・電子材料の前処理
製品・材料
- 高純度金属材料
- 電子部品材料、薄膜材料
- 粉末冶金部品
応用装置による製作事例
- 生産用装置
- 大型装置
- グローブボックス付超高真空高温炉
お問い合わせ先
三菱化工機株式会社 新領域プロジェクト部
〒567-0834 大阪府茨木市学園南町16-24
電話：072-632-6601
FAX：072-632-0801
