半導体製造装置向け大容量燃焼式排ガス除害装置「UPTIMUM」を販売

この度、三菱化工機株式会社（社長：山中　菊雄）は、DAS Environmental Expert 社（本社：ドイツ・ドレスデン、社長：ホルスト・ライヒャルト）と半導体、太陽電池、液晶用途向けに大容量型として開発し、DAS社がヨーロッパ及びアジア地域で販売実績を積み重ねている大容量燃焼式排ガス除害装置「UPTIMUM (アプティマム)」を、日本国内に販売いたします。 UPTIMUMは、これまで世界で2500台以上の販売実績のある燃焼式排ガス除害装置で培ってきたノウハウと経験を生かし、大容量型を目指して開発した排ガス処理装置です。今後需要の増加が予想される大口径ウェーハ製造や太陽電池、液晶パネル製造分野をターゲットとしており、各分野の製造装置から排出される有害ガスや温室効果ガス等の特殊プロセスガスを無害化します

特長

次世代プロセスに対応する大容量処理
最大4ポートの排ガスラインを接続し、排ガス処理量は従来機種の1.6倍に当たる毎分500リットルの処理が可能です。これにより処理量当たり20%以上の装置価格ダウンを達成します。（当社比）
独自開発による燃焼リアクタ
燃焼バーナーで形成される火炎の活性を利用することで待機燃焼を不要とした省エネを実現し、プロセス排ガスを分解します。
クリーンな排気を実現する高効率スクラバ
大容量と装置内の低圧力損失を両立させた高効率スクラバにより排気設備への負荷を抑え、酸性排ガスを急速に冷却・中和し、クリーンな排気を実現します。
サブミクロン粉体を除去する電気集塵機（EDC）
さらに自動セルフクリーニング機能を付加した独自開発の電気集塵装置（EDC）と組み合わせる事で、従来除去が困難であった、サブミクロン粉体を99%除去可能にしました。（質量比トータル）
コンパクトな設置スペース
幅1.5メートル、奥行き1.0メートル、高さ2.1メートルに燃焼室及びスクラバ部をパッケージングしたコンパクトなシステムです。

三菱化工機は半導体製造プロセスで使用される可燃性ガス、有毒ガス、PFCガス（注)の処理に幅広く採用されている燃焼除害装置ESCAPE モジュールシリーズに加え、新開発のUPTIMUMと、GIANT-800 のラインアップを揃え、様々なプロセスガスに対応し、毎分300リットルから1000リットルの排ガス量に対応した最適な除害装置を提供できる装置メーカーとして、更に事業を拡大していきます。

なお、本装置は、12月2日（水）より千葉県・幕張メッセで開催されるセミコンジャパン2009でも当社ブース（7C-1005）で実機展示します。

注　PFCガス：半導体製造工程で使用する温室効果ガス

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