三菱化工機は、12月3日（水）より5日（金）まで幕張メッセ（日本コンベンションセンター）にて開催される「SEMICON Japan 2008」（主催：SEMIジャパン）に、次の内容にて出展いたします。
今回は、粉体の多いCVDプロセスに対する最適化装置として新開発された「三菱DAS燃焼式排ガス除害処理 UPTIMUM」の実機展示を行います。また、UPTIMUMに装備することで、より高効率に粉体除去を可能にした「EDC」装置の実機展示もいたします。実機の他には大容量排ガス処理と大量の副生物粉体の処理を同時に行う「GIANT-800」のパネルなどを展示します。どうぞ、展示会にお越しの際は当社ブースにお立ち寄りください。
| 展示会会期 |
：平成20年12月3日（水）〜5日（金）10:00〜17:00 |
| 展示会場 |
：幕張メッセ（日本コンベンションセンター）
千葉市美浜区中瀬2-1 |
| 当社ブース |
：展示ホール7 7D-1101 |
| 展示品 |
：「三菱DAS燃焼式排ガス除害装置 UPTIMUM」 実機・パネル
「三菱DAS電気集塵ユニット EDC」 実機・パネル
「三菱DAS燃焼式排ガス除害・粉体回収装置 GIANT-800」 パネル
「三菱DAS燃焼式排ガス除害装置 ECO2」 パネル
「三菱DAS燃焼式排ガス除害装置 ESCAPE INLINE」 パネル
「高効率水素製造装置 HyGeia」 パネル
「ウェットプロセス液リサイクルシステム（遠心分離機）」模型・パネル |
なお、詳しい内容に関するお問合せは、下記（法務広報Ｇ）までお願い申し上げます。
